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日本及荷兰将加入限制对中国出口先进的半导体设备的行列。图为阿斯麦光刻机。 （ASML 图片）

光刻机是生产晶片的关键设备。 （ASML 图片）

中美科技战愈演愈烈，据报日本及荷兰将加入限制对中国出口先进的半导体设备的行列，三国于27日达成共识，据称除极紫外光刻机（EUV）将纳入限制外，次高端的深紫外光刻机（DUV）也将纳入管制。外媒形容，三国如同联手对中国「降下矽幕」。

彭博社27日引述消息来源报道，日本与荷兰将和美国一同限制半导体设备制造商出口能制造先进晶片的设备到中国。协议内容并未公开。此外，日荷两国还需要花费数月时间完成法律工作，落实禁令。

荷兰首相吕特同日在海牙表示，相关讨论已持续好一段时间，事涉敏感，荷兰政府谨慎以对。

报道称，欧盟内部市场业务执行委员布勒东说，欧盟对美国「充分」承诺，将达成使中国半导体业窒息的目标，「我们完全赞同使中国无法取得最先进晶片的目标，不能任由中国获得最先进科技」。

报道将这项协议称为「拜登的胜利」。

全球前八大半导体设备商受影响

光刻机是生产晶片的关键设备，全球目前仅有荷兰和日本有能力制造光刻机。

日荷两国跟进制裁后，半导体设备须配合「nonplanar transistor architectures 」设备出口标准限制，意即16、14奈米及以下等「非平面式电晶体架构」制程设备禁止输入中国，预期日企TEL、SCREEN、Hitachi High-Tech、Kokusai、Nikon、Canon， 荷企阿斯麦（ASML）、ASM 等皆将受到影响。全球前八大半导体设备商都将遵循美出口管制，暂缓设备出口至中国，除了设备出口限制之外，日本、荷兰工程人员恐怕也将预防性撤出晶圆厂房，等待美商务部审查完成后再返回产线工作。

华为已申请EUV机相关专利

目前半导体曝光机台主要由荷商ASML及日商Nikon、Canon提供， 尤其EUV（极紫外光）机台由ASML独供、DUV immersion设备则由ASML 及Nikon寡占。《金融时报》称，去年荷兰与美国本来快达成共识，要以十奈米晶片技术为限制门槛，但后来传出中国最大晶片制造商中芯国际成功制造七奈米晶片，这通常要用到EUV机器，不过中国却从技术较低的DUV机器结合其他设备研发突破，使美国再扩大出口限制。

《南华早报》则称，中国国家知识产权局去年11月披露，中国科技巨头华为技术公司已在2021年5月申请与EUV技术相关的专利。无论美日荷挡不挡，中国都将全力拼晶片自主，因此美国围堵联盟重点在尽量拖延中国进度。

荷兰《晨报》，晶片制造技术非常复杂，但全球晶片产业结构却非常简单：晶片设计商最重要在美国、制造商最重要在台湾和韩国、设备商在荷兰和日本。这些国家联手降下「矽幕」，将为中国自主晶片之路带来很多困难。